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(19)中华 人民共和国 国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告 号 (45)授权公告日 (21)申请 号 202123085330.X (22)申请日 2021.12.10 (73)专利权人 中唯精密工业有限公司 地址 300300 天津市东 丽区华明街道华明 低碳产业园A3座 401 (72)发明人 于成泽 王季 田小青 朱志坤 刘越盟 蒋晨宇 (74)专利代理 机构 北京创赋致远知识产权代理 有限公司 1 1972 代理人 邱晓宁 胡雅娟 (51)Int.Cl. B01D 29/03(2006.01) B01D 29/56(2006.01) (54)实用新型名称 一种等离 子液体纳米抛光储液过滤装置 (57)摘要 本实用新型提供了一种等离子液体纳米抛 光储液过滤装置, 其包括依次连通的储液槽、 过 滤槽和抛光液回路; 所述过滤槽的出口高于其入 口; 抛光液自下向上流经过滤槽, 所述过滤槽内 设置有过滤装置, 用于对抛光液进行过滤处理。 本装置解决了目前抛光液过滤工艺效率低下、 费 用高、 占用空间大等问题。 权利要求书1页 说明书3页 附图3页 CN 215387901 U 2022.01.04 CN 215387901 U 1.一种等离子液体纳米抛光储液过滤装置, 其特征在于, 包括依次连通的储液槽、 过滤 槽和抛光液回路; 所述过滤槽的出口高于其入口; 抛光液自下向上流经过滤槽, 所述过滤槽 内设置有过 滤装置, 用于对抛光液进行 过滤处理。 2.根据权利要求1所述的一种等离子液体纳米抛光储液过滤装置, 其特征在于, 所述储 液槽装有液位传感器, 用于监测储液槽内的抛光液 液位。 3.根据权利要求2所述的一种等离子液体纳米抛光储液过滤装置, 其特征在于, 所述液 位传感器的数量 为若干个, 在高度方向上, 若干个液位传感器间隔设置 。 4.根据权利要求1所述的一种等离子液体纳米抛光储液过滤装置, 其特征在于, 所述 回 路上设置有 泵体, 用于迫使抛光液循环流动。 5.根据权利要求1所述的一种等离子液体纳米抛光储液过滤装置, 其特征在于, 所述过 滤槽倾斜设置, 倾 斜角度范围3 0‑90°。 6.根据权利要求1所述的一种等离子液体纳米抛光储液过滤装置, 其特征在于, 所述过 滤装置的数量为若干个, 在抛光液流动方向上, 若干过滤装置间隔设置, 进而 形成多级过滤 结构。 7.根据权利要求1所述的一种等离子液体纳米抛光储液过滤装置, 其特征在于, 所述过 滤装置包括隔板, 隔板间设有过 滤材料。 8.根据权利要求7所述的一种等离子液体纳米抛光储液过滤装置, 其特征在于, 所述过 滤材料的材质为 合成纤维过 滤棉。 9.根据权利要求5所述的一种等离子液体纳米抛光储液过滤装置, 其特征在于, 所述过 滤装置可拆卸地设置在所述过 滤槽内。 10.根据权利要求7所述的一种等离子液体纳米抛光储液过滤装置, 其特征在于, 所述 过滤材料的厚度设计为1~10mm。权 利 要 求 书 1/1 页 2 CN 215387901 U 2一种等离 子液体纳米抛光储液过滤装 置 技术领域 [0001]本实用新型涉及等离子液体纳米抛光技术领域, 尤其是涉及抛光液储液过滤装 置。 背景技术 [0002]目前, 等离子液体纳米抛光使用低浓度的中性盐溶液为介质, 在零件表面形成等 离子气层, 对零件进 行抛光、 去毛刺等处理, 使 抛光后的工件表面粗糙度值可以达到或者接 近纳米级别。 零件表面被去除的材料会形成微小颗粒, 悬浮于溶液中。 在生产过程中, 微小 颗粒的浓度逐渐增大, 形成杂质影响抛光效果。 现有的处理方案是将抛光液静置两到三 天, 这些金属颗粒就会沉积到容器底部, 将上层的抛光液抽出就可以重新使用。 现有方案需要 将抛光液长期静置, 才能去除金属杂质, 因此要保证生产不间断, 就必须准备大量的抛光 液, 一般需要存储抛光设备容积五到八倍的抛光液, 才能保证生产连续进行, 既影响效率, 增加抛光液的存 储成本, 还要占用大量空间。 发明内容 [0003]本实用新型的目的在于提供一种等离子液体纳米抛光储液过滤装置, 以解决现有 技术中存在的至少一个上述 技术问题。 [0004]为解决上述技术问题, 本实用新型提供的一种等离子液体纳米抛光储液过滤装 置, 包括依次连通的储液槽、 过滤槽和抛光液回路; 所述过滤槽的出 口高于其入口; 抛光液 自下向上流经 过滤槽, 所述过 滤槽内设置有过 滤装置, 用于对抛光液进行 过滤处理。 [0005]依靠重力及过滤装置的过滤实现抛光液在线去除杂质, 依靠储液槽实现短时存 储, 依靠抛光液回路实现循环使用, 提高了过滤效率, 进而减少停机时间, 减少 了抛光液需 求量, 提高了生产率, 降低了成本 。 [0006]进一步地, 所述储液槽装有液位传感器, 可以监控抛光液液面位置, 再与外部自动 化生产线的控制系统相连接, 实现外 部生产系统对液位的感知。 [0007]进一步地, 所述液位传感器 的数量可以是若干个, 在高度方向上, 间隔设置, 这样 可以感知不同位置的液位高度, 为 生产线指令随时提供参 考。 [0008]进一步地, 所述抛光液回路上设置有 泵体, 用于迫使抛光液循环流动。 [0009]依靠自动控制系统对抛光液位的感知, 并根据作业需求, 自动开启或者关闭泵体, 当储液槽内净化后的抛光液处于高位时, 自动导入生产线进行加工使用, 此时泵体可以暂 时关闭, 节约能源; 当净化后的抛光液 处于低位时, 可以指 令打开泵体, 开启过滤, 补充储液 槽中的抛光液, 如此往复, 实现自动化循环生产。 [0010]进一步地, 所述过 滤槽放置倾 斜角度可以是3 0~90°范围。 [0011]这样抛光液由过滤槽底部流入, 顶部流出时。 依靠重力, 自动对抛光液中较重杂质 进行沉淀分离 。 [0012]优选地, 所述过 滤槽内的过 滤装置可设置有 多级。说 明 书 1/3 页 3 CN 215387901 U 3
专利 一种等离子液体纳米抛光储液过滤装置
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