(19)国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告 号 (45)授权公告日 (21)申请 号 202221457376.1 (22)申请日 2022.06.10 (73)专利权人 四川旭虹光电科技有限公司 地址 621000 四川省绵阳市经开区涪滨路 北段177号 专利权人 北京远大信达科技有限公司 (72)发明人 李青　李赫然　罗靖　刘晓东　 吕先跃　陈金龙　刘春元　任继阳　 (74)专利代理 机构 北京润平知识产权代理有限 公司 11283 专利代理师 邝圆晖 (51)Int.Cl. B05B 13/02(2006.01) B05B 13/04(2006.01) B05B 16/20(2018.01)B05D 3/02(2006.01) C23C 14/04(2006.01) C23C 16/04(2006.01) (54)实用新型名称 镀膜遮蔽装置及镀膜系统 (57)摘要 本实用新型提供一种镀膜遮蔽装置及镀膜 系统， 镀膜遮蔽装置包括底座、 第一喷头和第二 喷头， 底座用于承接镀膜件并能够围绕竖向中心 轴线自旋转， 第一喷头位于底 座的上方并能够向 下方喷出遮蔽药剂， 第二喷头位于底 座的前侧并 能够向后侧喷出遮蔽药剂， 第二喷头能够沿左右 方向移动。 本实用新型提供的镀膜遮蔽装置用于 在镀膜件开始镀膜之前， 将非镀膜 面喷涂上均匀 的遮蔽涂层， 镀膜完成后通过水溶方式对非镀膜 面涂层进行有效褪除。 如此便可以对镀膜件的非 镀膜面进行有效保护， 解决非镀膜 面污染的技术 问题， 而且采用涂层遮蔽， 技术受约束性较低， 可 适用于多种复杂外形尺寸工件。 权利要求书1页 说明书4页 附图2页 CN 217594958 U 2022.10.18 CN 217594958 U 1.一种镀膜遮蔽装置， 其特 征在于， 所述镀膜遮蔽装置包括： 底座(11)， 用于承接 镀膜件并能够围绕竖向中心轴线自旋转； 第一喷头(12)， 位于所述底座(1 1)的上方并能够向下 方喷出遮蔽药剂； 第二喷头(13)， 位于所述底座(11)的前侧并能够向后侧喷出所述遮蔽药剂， 所述第二 喷头(13)能够沿左右方向移动。 2.根据权利要求1所述的镀膜遮蔽装置， 其特征在于， 所述第 一喷头(12)和所述第二喷 头(13)均为雾化喷头 。 3.根据权利要求1或2所述的镀膜遮蔽装置， 其特征在于， 所述镀膜遮蔽装置还包括操 作台(10)， 所述底座(1 1)、 第一喷头(12)和第二喷头(13)均设于所述操作台(10)的上台面。 4.根据权利要求3所述的镀膜遮蔽装置， 其特征在于， 所述操作台(10)的上台面设有沿 左右方向延伸的滑轨(14)， 所述滑轨(14)上设有能够沿所述滑轨(14)延伸方向移动的滑 块 (141)， 所述第二喷头(13)为连接 于所述滑块(141)上的移动喷头 。 5.根据权利要求3所述的镀膜遮蔽装置， 其特征在于， 所述镀膜遮蔽装置还包括位于所 述操作台(10)的下方的电机(20)， 所述电机(20)穿过所述操作台(10)连接所述底座(11)并 用于驱动所述底座(1 1)自旋转。 6.根据权利要求5所述的镀膜遮蔽装置， 其特征在于， 所述镀膜遮蔽装置还包括安装于 所述操作台(10)的底部的框架(21)， 所述框架(21)用于将所述电机(20)固定安装在所述操 作台(10)的下 方。 7.一种镀膜系统， 其特征在于， 所述镀膜系统包括根据权利要求1至6中任意一项所述 的镀膜遮蔽装置 。 8.根据权利要求7所述的镀膜系统， 其特征在于， 所述镀膜系统还包括固烤设备， 所述 固烤设备用于将所述遮蔽药剂固化。 9.根据权利要求8所述的镀膜系统， 其特 征在于， 所述固烤设备为烤箱。 10.根据权利要求8所述的镀膜系统， 其特 征在于， 所述遮蔽药剂为水 溶性油墨。权　利　要　求　书 1/1 页 2 CN 217594958 U 2镀膜遮蔽装 置及镀膜系统 技术领域 [0001]本实用新型属于 镀膜技术领域， 尤其涉及一种镀膜遮蔽装置及镀膜系统。 背景技术 [0002]近年来随着真空镀膜技术的不断发展， 需要通过表面膜层提升性能的产品日益增 多， 所以此项技术得到大家的广泛应用。 真空镀膜技术通常采用PVD/CVD两种方式， 成膜材 料均以气相状态呈现， 因此整个真空环境下产品表面均会存在膜层附着。 但实际产品需求 大多只需要单面成膜。 遇到类似情况行业中多采用嵌入式治具方式进行处理， 此方式在镀 膜面的边缘还是会存在缝隙， 膜材分子会顺势进 行渗透， 造成非镀膜面污染， 并且治 具加工 精度相对较高， 边 缘处理不得当镀膜过程中极易造成色差异常。 实用新型内容 [0003]本实用新型的主要目的是提出一种镀膜遮蔽装置及镀膜系统， 旨在解决现有技术 中的非镀膜面污染的技 术问题。 [0004]为了实现上述目的， 本实用新型提供一种镀膜遮蔽装置， 其中， 所述镀膜遮蔽装置 包括： [0005]底座， 用于承接 镀膜件并能够围绕竖向中心轴线自旋转； [0006]第一喷头， 位于底座的上 方并能够向下 方喷出遮蔽药剂； [0007]第二喷头， 位于底座的前侧并能够向后侧喷出遮蔽药剂， 第二喷头能够沿左右方 向移动。 [0008]在本实用新型实施例中， 第一喷头和第二喷头均为雾化喷头 。 [0009]在本实用新型实施例中， 镀膜遮蔽装置还包括操作台， 底座、 第一喷头和第二喷头 均设于操作台的上台面。 [0010]在本实用新型实施例中， 操作台的上台面设有沿左右方向延伸的滑轨， 滑轨上设 有能够沿滑轨延伸方向移动的滑块， 第二喷头为连接 于滑块上的移动喷头 。 [0011]在本实用新型实施例中， 镀膜遮蔽装置还包括位于操作 台的下方的电机， 电机穿 过操作台连接底座并用于驱动底座自旋转。 [0012]在本实用新型实施例中， 镀膜遮蔽装置还包括安装于操作台的底部 的框架， 框架 用于将电机固定安装在操作台的下 方。 [0013]在本实用新型实施例中， 还提出一种镀膜系统， 该镀膜系统包括如上所述的镀膜 遮蔽装置 。 [0014]在本实用新型实施例中， 镀膜系统还包括固烤设备， 固烤设备用于将遮蔽药剂固 化。 [0015]在本实用新型实施例中， 固烤设备为烤箱。 [0016]在本实用新型实施例中， 遮蔽药剂为水 溶性油墨。 [0017]通过上述技术方案， 本实用新型实施例所提供的镀膜遮蔽装置具有如下的有益效说　明　书 1/4 页 3 CN 217594958 U 3